技术编号：8298383
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。 本发明涉及一种用于半导体生产中产生电路的光刻胶组合物，此光刻胶使用有机 硅改性的线性酚醛树脂，具有比通常的酚醛体系正性光刻胶更高的玻璃化转变温度和耐等 离子蚀刻的性能，能在较高的烘烤温度下保持光刻胶图形不变化，且在干法蚀刻的过程中 有更高的选择比。背景技术 在液晶显示器行业和半导体行业中光刻胶用于产生细微的电路图形，通过蚀刻将 细微电路形成于基板上。在目前的行业中，用于TFT-IXD、TN/STN、LED生产中使用的紫外正 性光刻胶基本以线性酚醛树脂体系...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。