技术编号:8313842
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。石墨烯薄膜产业化中,石墨烯生长多采用半导体产业的化学气相淀积炉管设备,为达到工业化水平,用于石墨烯薄膜生长化学气相淀积设备炉管的管径在30cm至45cm之间,炉体长度在300cm至400cm之间,石墨烯生长炉管设备使用一定周期后,石英管两端口壁上附有黑色物质残留,及紫色物质残留,黑色物质成份是碳,紫色物质是高温下挥发的铜附着在石英管内壁;石英管中间有少许黑色物质残留;上述残留物过多,会严重影响石墨烯生长质量,因此需要定期去清理上述残留物,依照半导体产业经验...
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