技术编号：8318257
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。 投影光刻机(或称光刻设备）是用以将掩模上的图案通过投影物镜投影到硅片表 面的装置。在投影曝光设备中，必须有自动调焦调平控制系统把硅片的表面精确地设置到 指定的曝光位置。实现自动调焦调平控制功能有多种不同的技术方案，目前比较常用是非 接触式光电测量技术。 在非接触式调焦调平探测装置中，采用扫描反射镜对硅片面反射回来的光信号进 行调制，然后再通过解调探测器所产生的电信号，可以达到准确测量硅片位置的目的。但是 随着硅片尺寸增加和曝光区域的增大，为了提高测量精度...
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