技术编号：8320661
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。在硅片传输领域中对硅片的固定通常有两种方式，边缘夹持和真空吸附。边缘夹持是指利用卡紧机构实现对硅片边缘的夹持，边缘夹持对硅片底部的污染小，但结构复杂，夹持力难以保证，并且当需要硅片旋转时，会大大增加整体的转动惯量，给驱动系统带来负担。真空吸附是指以吸盘支撑硅片中心部位并利用真空来吸附硅片。真空吸附机构相对简单，但会对硅片底部造成污染。在硅片传输系统中，硅片打磨装置、硅片预对准装置会应用到真空吸附。目前常见的吸盘由于抽气孔在吸盘中心位置(如图1所示)，在真空...
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