技术编号：8338727
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。 本发明是有关于一种光阻脱除剂，且特别是有关于一种含有仲或叔醇胺、含有极 性溶剂更含有醇醚类化合物的光阻脱除剂。 先前技术 -般来说，半导体积体电路的制程基本上是通过以下步骤进行在基板上形成材 料层；将光阻涂布在该材料层上；选择性地对光阻进行曝光及显影，以形成图案；以光阻图 案作为遮罩，对该材料层进行蚀刻，进而将微电路图案转移至光阻下层；最后，使用光阻剥 除剂，将不必要的光阻层移除。 对光阻剥除剂来说，其高剥除能力和低腐蚀性是两样基本的要求。高剥除能力确 ...
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