技术编号:8341168
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。集成电路(IC)尤其是超大规模集成电路中的主要器件是金属氧化物半导体场效应晶体管(M0S),随着半导体集成电路工业技术日益的成熟,超大规模的集成电路的迅速发展,具有更高性能和更强功能的集成电路要求更大的元件密度,而且各个部件、元件之间或各个元件自身的尺寸、大小和空间也需要进一步缩小。对于具有更先进的技术节点的CMOS而言,后高K介电层/金属栅极(high-k and metal gate last)技术已经广泛地应用于CMOS器件中,以避免高温处理工艺对器...
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