技术编号：8367347
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。 本发明一般涉及来自等离子体系统的RF信号的分析，包括分析在RF频率处调制 的等离子体负载的光信号。背景技术 等离子体工艺用于各种工业，例如半导体、扁平面板和太阳能领域。这些等离子体 工艺被要求执行复杂的工艺，例如表面的实时沉积、刻蚀或蚀变。 通过使得RF电流穿过低压气体形成等离子体。等离子体的密度取决于RF波形的 频率在碰撞频率和RF频率之间的关系。相对高的频率用于最大化等离子体密度。经常地 使用第二频率RF波对正处理的衬底施加偏压，以便离子以正确的能量...
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