技术编号:8376310
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。 传统的镀膜机的溅射室腔体的体积较小,载玻片连同基板在运行过程中,在分子 泵速度相同的情况下,溅射的气氛压力会有很大的变化,所镀膜的成分就会不均匀。为解决 以上问题,维持腔体内溅射压力稳定,有设计者采用维持分子泵速度不变,固定半开开度, 而自动调整溅射气压的方式来解决这一问题,虽达到控制溅射气压的稳定,但由于气氛改 变过所及气体质量流量计的漂移等问题,造成膜层的成分急剧差异。发明内容 本发明提供了一种溅射室压力稳定方法、溅射镀膜方法和稳压溅射装,以解决传 ...
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