技术编号：8380041
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。随着半导体产业的发展，尤其是LED产业的发展，光刻机设计的小型化、低成本化成为趋势。目前常见的小型化、低成本化的做法是使用新材料，通过不同材料的特性或价格差异达到设计目的，而作为上层的控制架构和作为执行指令的控制硬件，则较少改变。目前常用的控制方法如图1所示该方案用一个工作站或服务器作为主控制单元，执行上层软件，通过人机交互操作把指令下发给下层的分系统；光刻机的每一个分系统，如工件台分系统、曝光分系统、调焦调平分系统，分别用一个单独的分系统计算机(或控制器...
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