技术编号：8380046
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。 在光刻领域内，曝光的图像场在半导体层上的精确布置可能是非常重要的，尤其 是因为一个或多个另外的层可能随后被制作在这一层上。层内定位或者场拼接可以因此包 括在半导体晶圆的共享层上光刻产生的图像（即，曝光的场）相对于彼此的布置。从而，在 一些实现中，利用例如一些场区域重叠，多个半导体器件（例如，处理器芯片）曝光可以在 半导体晶圆表面重复。 因此，利用例如位于每个曝光的图像上的预定图案图像（即，瓣状区（petal))可 以实现与将每个曝光的场相对于它的临近场定...
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