技术编号：8396012
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。随着集成电路技术的发展，芯片的特征尺寸越来越小，单个芯片的集成度不断提高，结构和工艺日益复杂，版图数据库的规模成倍增加。随着版图规模的扩大，使得在集成电路设计的各个阶段所需验证的设计规则不断增多。其中集成电路版图的设计规则检查(DRC)以及集成电路版图与原理图的一致性检查(LVS)变得越来越重要，它们对于减少设计错误、降低设计成本和设计失败的风险具有重要作用。在超大规模集成电路的设计中，版图规模急剧膨胀，如何在版图中快速地定位问题，成为集成电路设计面临的又...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
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请注意，此类技术没有源代码，用于学习研究技术思路。