技术编号：8398906
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。 硅质膜的硬度以及密闭性比较高，因而在半导体元件的制造领域中被应用于各种 用途中，具体而言，应用于基板、电路等的硬涂膜、气体阻隔膜、基材强度提高膜等用途中。 作为这样的硅质膜，人们正在研宄着各种硅质膜。非专利文献1中公开了如下内容将聚硅 氮烷涂布在基材表面并进行干燥后，在非活性环境下照射氙准分子激光（波长172nm)而形 成SiON层。另外，在专利文献1中也公开了通过同样的方法而获得高性能的气体阻隔膜。 如此，人们在研宄着通过使用具有Si-N、Si-H以及...
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