技术编号：8399275
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及能够形成微细且高精度的曝光图案的，特别涉及适合在平板显示器的制造中使用的技术。本申请基于2012年12月27日于日本申请的日本特愿2012-285846号主张优先权，在此引用其内容。背景技术在半导体设备及FPD的制造工序中，为了在形成于由硅或玻璃等构成的基板的抗蚀剂膜上对微细图案进行曝光、转印而使用相移掩膜。由于Fro用的玻璃基板比半导体用的硅基板面积大，因此为了以充分的曝光光量对Fro用的基板进行曝光而使用g线、h线及i线的复合波长的曝光光。当...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。