技术编号：8406563
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。专利说明具有对酸不稳定的基团的共聚物，光刻胶组合物、涂覆的基 材从及形成电子器件的方法 领域 本发明设及具有对酸不稳定的基团的共聚物，W及该共聚物在光刻胶组合物中的 应用。[000引介绍 远紫外巧UV)福射是被空气强吸收的，因此EUV工具在高真空下操作，W具有最大 的源强度。高真空提高了低分子量光刻胶组分的脱气，它们可W沉积在光学元件上。所得 的沉积物降低了掩模和成像镜的反射率，导致到达晶片表面的EUV能下降，导致较低的生 产量和降低的生产率。污染物也可能...
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