技术编号：8413915
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。在等离子体刻蚀过程中，由于对刻蚀材料没有好的选择比，因此需要刻蚀终点检测来检测刻蚀工艺并停止刻蚀以减小对下面材料的过度刻蚀。终点检测系统测量一些不同的参数，如刻蚀速率的变化、在刻蚀中被去除的腐蚀产物的类型或气体放电中活性反应剂的变化。用于终点检测的一种方法是发射光谱法。这一测量方法集成在刻蚀腔室中以便进行实时监测。在连续波射频等离子体刻蚀过程中，采用基于光强变化对刻蚀终点进行检测。但是，由于光强的变化与等离子体有关，在双频或多频脉冲等离子体中，等离子体发射...
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