技术编号:8417662
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及对被处理基板进行溅射、CVD、蚀刻等处理的真空处理装置等的基板处理装置,尤其是涉及在基板处理装置中使用了一面保持被处理基板一面进行搬运的基板托盘的基板处理装置。背景技术在真空处理装置中,为了提高生产率,将多张基板处理同时搬运至处理室,或为了不变更装置构成地处理外形尺寸不同的基板,使用可以保持基板并进行搬运的基板托盘。图12A?12C是表示以往的基板托盘的第I例(参照专利文献I)。图12A?12C表示具备用于保持小的基板的锪孔702,示出了呈碟形状...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。