技术编号：8429945
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。先进的超大规模集成电路的制造过程是一个庞大的系统工程，它包括五个制造阶段硅片制备、硅片制造、硅片测试、装配与封装、终测。硅片制造阶段是将一整套集成电路永久刻蚀在硅片上的过程，它包括硅片清洗、成膜、光刻、刻蚀、掺杂等工序，其中光刻被认为是大规模集成电路制造中的核心步骤。运动台系统是光刻机的“手”和“脚”，主要功能是在曝光过程中，对硅片和掩模进行准确的定位。气足是为精密运动台提供气浮轴承支撑、保证运动台在平台上作无摩擦运动的关键部件，主要由气浮结构和预紧力结构...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。