技术编号:8432335
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。目前市场上双向保护的ESD器件较多,但两个方向的性能基本都不是对称的。主要原因在于,目前的双向保护ESD器件大多都采用图1所示的NPN型的三极管结构来实现。该三极管包括N+衬底10、N-外延层11、P+阱区12、N+发射区13、介质层14和电极15。其中,N-外延层11位于N+衬底10上,P+阱区12形成在N-外延层11内,N+发射区13形成在P+阱区12内,介质层14内形成有接触孔,电极15位于该接触孔内并且和N+发射区13电接触。N+衬底10作为三极管...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。