技术编号:8437614
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。 本发明涉及一种光学器件的公差分析方法,尤其涉及一种眼底相机的公差分析方 法,属于眼底成像系统检测领域。背景技术 光学器件在设计完成以后,送厂加工以前,还要对系统进行详细的公差分析。在光 学零件加工的过程中,由于加工设备存在系统误差、随机误差等各种因素的影响,光学表面 不可能完全和标准样板一致。零件在加工中所允许的尺寸、形状和位置等最大的误差变化 范围,称为公差。在零件加工和安装过程中,过于宽松的公差往往会造成实际加工出来的系 统性能远低于理论设计值,有时...
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