技术编号:8441360
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。 本发明涉及光学显微技术和光学纳米材料领域,特别涉及基于上转换纳米晶的受 激损耗超分辨光学显微方法及系统。背景技术 根据瑞丽/阿贝准则,光学系统能分辨的两个等亮度间的距离对应艾里斑的半 径,艾里斑的大小可以用半高全宽(full-widthathalf-maximum,FWHM)来表示为主权项1. 基于上转换纳米晶的受激损耗超分辨光学显微方法,其特征在于,包括以下步骤 (1) 第一连续激光器产生稳态激光束,经空间相位调制后形成空心光束,该空心光束用 作受激...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。