技术编号:8451538
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。半导体材料具有无毒、成本低和物理化学性能独特的优点,使其研宄得到了广泛的关注。C3N4作为N型半导体,其光吸收阈值约为420nm,高于目前最常用的半导体材料T12的387nm。可见,C3N4具有良好的光吸收能力。而WO 3由于具有带隙小、光吸收频率范围较大、能有效利用可见光、亲水性强、在水中分散性好、光催化效率高等优点,既可以单独用作光催化剂,也可以用冊3修饰T12、碳纳米管、C3N4等提高它们的光催化效率,还可以与其他半导体混合制备复合光催化材料,获得较...
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