技术编号：8453806
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。目前，化学电镀在工业中应用已久，但由于在电镀过程中有三废排放对环境污染严重。随着真空技术的发展，采用物理原理的真空多弧离子镀膜势必替代传统的化学电镀。离子镀是在真空室中，利用弧光放电和被蒸发物质离子化，在气体离子和被蒸发物质粒子轰击作用的同时，将蒸发物沉积在基材上形成镀膜，其特点是入射粒子能量高，成膜致密度高，附着力特强等优点，其缺陷在离子镀的膜层不能过厚，过厚将影响附着力，所以制约了多弧离子镀替代化学镀的工艺。发明内容本发明为了解决现有技术的上述不足，提...
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