技术编号:8459975
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。 电气/电子设备不仅追求能够应对高性能化和小型化、低成本化的设计/制造技 术,还追求能够应对制品的多样化和制品周期的短期化的设计/制造技术。然而,要想将 一般利用光蚀法掩蔽金属、非金属材料的薄膜并通过蚀刻等而形成的膜微细图案化,工序 复杂,对图案的灵活性(flexibility)的限制也多,在具有大台阶差的部位难以形成连续 的图案;另外,在非金属材料的情况下,蚀刻速度慢,而且由于蚀刻温度高,在蚀刻气体对基 板、器件结构的损害、掩蔽材料的耐久性等方面具有很多...
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