技术编号：8460588
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。以下描述及实例不因为其包含在此段落中而被承认为是现有技术。如概述用于高纵横比(HAR)结构的最新技术的度量选择的“超越22nm的半导体度量3D 存储器度量(Semiconductor metrology beyond 22nm 3D memory metrology) ”，艾克奥(Arceo)等人，《固态技术(Solid State Technology)))(在线版本)，2012年2月16日(其以全文引用的方式并入本文中)中所述“许多光学技术(尤其那些在...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。