技术编号：8460667
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。 本发明涉及一种用于去除光刻胶的，更 详细地讲，涉及一种不仅能够具体实现优良的剥离性能，而且能够使金属布线的腐蚀最小 化，并且对人体和环境无害的环保型光刻胶去除用剥离液组合物及光刻胶的剥离方法。背景技术 光刻胶（photo-resist)是光刻（photolithography)工艺中必不可少的物质，这 种光刻工艺是为了制作如集成电路（Integrated circuit, 1C)、大规模集成电路（large scale integration, LSI)...
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