技术编号：8468975
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。目前利用化学气相沉积方法，在含钴量小于8%的碳化钨拉丝模具内孔表面作微米级涂层已基本成熟。由于CVD方法生长的金刚石薄膜的性质近似于天然单晶金刚石，硬度相当之高，故在拉丝行业中受到广大用户的表睐。众所周知要得到光滑表面与模具内孔的光洁度粗糙度有着密不可分的关系，粗糙度越小光洁度越高的模具内孔在拔制过程中阻力将越小，拉拔出的产品表面就越光滑。特别是电缆行业紧压铝导体绞合工艺中，光洁度越低的模具，绞合成的导体表面毛刺越多，易出现击穿现象且在紧压绞合过程中会产生...
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