技术编号：8492113
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及在真空的处理室内对被处理物进行等离子体处理的。背景技术已知有在被真空化的处理室内作为被处理物而对例如基板使用等离子体进行各种处理的等离子体处理装置。作为等离子体处理，有例如将基板表面的污渍去除的清洗或蚀刻、在基板上形成为通孔时将在该通孔的壁面上附着的树脂残渣(污点)去除的沾污去除(desmear)、将基板表面的抗蚀剂(有机物)的残渣(浮渣)去除的浮渣去除等。等离子体处理中，在使处理室内为真空而从高频电源对一对电极间施加了高频电压的状态下将过程气体...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。
该类技术注重原理思路，无完整电路图，适合研究学习。