技术编号:8494341
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。当在薄膜沉积在大型衬底上之后执行退火时,难以确保在衬底上的均匀性。因此,正建议各种替代方案,其中的一个为使用激光的退火方法。图1为用于解释根据现有技术的激光热处理设备的示意图。参看图1,将石英窗20安置在反应室10的顶表面中,且将激光辐照器40安置在石英窗20上方。从激光辐照器40输出的激光41穿过石英窗20且辐照到衬底W (例如,反应室10中的晶片)上。图2(a)及图2(b)为用于解释在图1中使用的激光41或激光束的视图,图2(a)为当从上方检视时的衬底...
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