技术编号：8499289
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。在对半导体晶圆等基板进行处理的基板处理装置中，为了维持稳定的处理性能而定期地进行人工维护、例如腔室清洁、消耗部件的更换等。在进行该人工维护之前，使基板处理装置的整体或者一部分成为适于人工维护的状态(基板处理装置的停止)。具体地说，例如使进行高温处理的处理模块(mod ule)内的温度下降至不会妨碍人工维护的温度，或者事先使基板处理装置自动地进行多个维护工序中的只能通过人工进行的工序以外的工序(例如处理液供给系统的清洗)。在专利文献I中记载了以下点将用于进行...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。