铝钽旋转靶材及可控气氛冷喷涂制备铝钽旋转靶材的方法技术资料下载

技术编号:8509342

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旋转靶材主要是用于平面显示器、大规模集成电路等领域,对靶材的纯度和密度 具有极高的要求。现有技术使用真空熔炼空心靶管,然后拼接绑定的方法制备大尺寸旋转 靶材,靶材的拼接绑定需要消耗大量的铟,铟的价格昂贵,大幅度增加了靶材的成本。另一 方面,绑定的靶材节与节之前存在间隙,间隙的存在易引起靶材电弧放电,降低薄膜质量, 影响溅射速率和工作效率,提高镀膜成本。 同时,现有的合金靶材存在不少问题,随着平面显示器、大规模集成电路不断的更 新换代,对靶材质量的要求越来...
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