技术编号：853
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种摄象管靶，更准确地说，涉及整流接触型摄象管靶的一种改进的结构，该靶包括含有作为主要成分的硒、同时包含砷、碲或其他材料的P型光电导层以及电子束射击层，该靶的特点是在长期工作期间信号电流对靶电压的特性几乎不变。在美国专利第3，890，525，3，922，579，3，984，722，4，040，985和4，330，733号中公开了一种利用包含无定形硒、碲、砷及其他材料的P型光电导层和N型材料之间的整流接触特性的摄象管靶。这种类型的摄象管靶的优点是高响应速度，几乎没有影象寄生光斑，高分辨率和易于制造。图1表示...
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