技术编号:8558031
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。目前的溅射蒸发混镀单体真空镀膜设备在镀膜时,都是先溅射完后,然后破空把转架机构的载片手动板到反面再做蒸发处理,然而这样镀膜效率由于需要破空步骤以及后动翻转步骤致使生产效率很低,而且由于破空的影响使而不能再真空环境下一次成膜,对膜层质量有隐患。实用新型内容本实用新型的目的是提供单体真空镀膜设备转架载片的自动翻转结构来解决现有技术中镀膜时,都是先溅射完后,然后破空把转架机构的载片手动板到反面再做蒸发处理,而使生产效率很低,而且由于破空的影响使而不能再真空环境下...
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