技术编号:8582402
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。 本实用新型设及的是一种激光器,尤其是一种半导体激光累浦匀化禪合装置。背景技术 激光技术自上世纪六十年代至今高速发展,同时又与其他高新技术相互渗透,在 材料加工、医疗、军事、测量及科学实验研究等众多领域有着越来越广泛的应用。固体激光 器是当前最重要的激光光源类型之一,尤其是随着半导体激光器技术的发展,半导体累浦 的固体激光器值PL)具有体积小、效率高、光束质量好等诸多优势。 半导体激光需要W特定的方向及强度空间分布实现对固体激光增益介质实现累 浦,最常见的...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。