技术编号：8590510
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。现阶段晶体硅太阳能电池片生产正朝着提高单位时间效率、降低生产成本的方向发展。现在的管式 PECVD (Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposit1n 的简称)设备镀膜容易出现色差、跳色等需返工的异常片，大大增加了成本，影响了产能。分析上述异常片产生原因，主要由于炉口的氮气喷头的出气口 I是单一开口、单一方向的输出氮气，输气方向直接对着娃片，致使娃片出现异常，另外，如图1所不，这种喷头易造成反应炉管内氮气不均匀，致使镀膜效果...
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