技术编号：8594485
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。静压气体轴承支撑的运动定位平台因具有精度高、无摩擦、无磨损、环境适应能力强、低速时不出现爬行和滞后等卓越性能而广泛应用于微电子制造及其测量装备。通过优化设计参数及相应的位置伺服控制系统，目前气浮平台的性能可满足诸多微电子制造及其测量装备对运动定位载体的苛刻要求。但极紫外曝光、电子束曝光、离子曝光、薄膜测厚、线宽测量等前道工序和测量操作，不仅要求平台具有极高的运动定位精度，还需要真空或超洁净环境。但真空中气体轴承性能变化显著，更需要关注的是所排放的润滑气体污...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。