技术编号:8617633
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。近年来随着镀膜技术的发展,产品镀膜工艺已经从传统金属加工业延伸至半导体行业以及光电产业。真空镀膜已经成为了非金属电镀过程的重要技术手段,其种类大致可分为蒸发镀膜、溅射镀膜和离子镀。然而无论是上述的哪种形式的真空镀膜,其镀膜过程都需要一个良好的真空环境,现有技术中依靠抽真空设备,例如机械泵加扩散泵的组合设备,已经可以很好的满足镀膜机的真空度要求,并且,在产品完成镀膜后,通过打开泄压阀即可进行泄压,最终出料。不难看出,上述的现有技术的泄压过程将会伴随着较大的吸...
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