技术编号：8666344
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。微纳加工光刻技术是现代科学技术发展的方向之一，在国民生产生活中占有举足轻重的作用。然而，随着加工特征尺寸的逐步缩小，传统光刻技术中所用掩模不但开发成本直线上升，并且制作周期延长，严重影响了产品研发，及生产进度。为降低掩模成本，缩短产品开发周期，人们把目光聚焦到了新一代光刻技术一一无掩模光刻技术上。2005年I月Internat1nal Semateeh主办了全球无掩模大会，光刻专家讨论了无掩模光刻技术的前景，目前业界对无掩模光刻技术的普遍看法是虽然目前无掩...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。