技术编号:8673640
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。镀膜靶材是通过磁控溅射、多弧离子镀或其他类型的镀膜系统在适当工艺条件下溅射在基板上形成各种功能薄膜的溅射源。而靶材的生产与制造是将对应粉末经高温熔化后喷涂在基体上,而所述基体应具有粗糙度大的表面用以有效附着熔化后的粉末材料,从而实现靶材的生产。目前,针对基体表面粗糙度的处理一般采用人工处理,进而人工处理具有操作复杂,工作量大,粉尘大等等不足。由此,本发明人考虑对现有的基体粗糙度制造设备进行改进,本案由此产生。实用新型内容针对现有技术的不足,本实用新型提供了...
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