技术编号:8704234
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。现有的导电膜通常采用蒸镀工艺或磁控溅射工艺。蒸镀工艺是将氧化铟蒸镀到薄膜上。磁控溅射工艺是在透明有机薄膜材料上溅射透明氧化铟锡导电薄膜镀层。但是,现有工艺能耗大,成本高,生产出来的膜的表面导电性能不均,且透明度低。实用新型内容针对上述技术问题,本实用新型公开一种涂布装置,包括依次设置的放卷辊、第一导向辊、网纹辊、第一压辊、第二导向辊、收卷辊;第一导向辊位于薄膜通过线的下方;网纹辊位于涂布池内,涂布池内盛有涂布液,网纹辊的下半部分位于涂布液内,且网纹辊的底端...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。