技术编号:8725512
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。石墨烯是碳原子按Sp2杂化轨道组成六角型晶格的单原子层平面薄膜,作为一种新型半导体材料,具有高透光率、高导电率的特点。化学气相沉积法制备石墨烯是利用甲烷等含碳化合物作为碳源,通过碳源在催化基底表面的高温分解生长得到石墨烯。催化基底一般选用铜、镍、铂等过渡金属元素制成的薄片,由于铜基底在化学气相沉积法制备石墨烯时表现出独特的“自限生长”,因此适用于工业化大规模制备单层石墨烯薄膜。目前实验室主要采用化学气相沉积方法在催化基底上制备石墨烯薄膜,然后在表面旋涂有机...
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