技术编号：8725941
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。石墨烯薄膜产业化中，用于石墨烯生长的工艺腔使用一定时间后，催化金属或者碳源的气体容易在工艺腔腔体内凝集形成残留物，残留物易形成颗粒并脱落，污染工艺腔并进一步影响石墨烯薄膜生长质量，所以需要清洗工艺腔的腔体，目前都是采用化学液清洗腔体，清洗间隔周期在15天左右，清洗过程需要耗费2天时间，这种方式严重影响工艺腔产出，如何延长用于石墨烯生长的工艺腔内腔体的清洗间隔周期，对降低生产成本和提升产出，至关重要。实用新型内容本实用新型主要是解决现有技术中所存在的工艺腔清...
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