技术编号:8750818
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。蚀刻制程中常需要使用氯气(Cl2)对特定的薄膜层进行蚀刻,所以需要持续提供氯气。通常,氯气被压缩充装于供气设备的气瓶中,并通过气瓶接头接入供气设备的气瓶以持续利用氯气进行蚀刻。因为氯气具有毒性、氧化性,特别是与水结合后会产生盐酸和次氯酸会腐蚀气瓶接头。所以,通常需要在气瓶接头上设置排气箱。图1是现有的供气设备的气瓶接头设置排气箱的结构示意图。如图1所示,供气设备200包括气瓶210、气体导引管220、气瓶接头230、导管240、气体处理装置250和排气箱2...
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