技术编号：8760493
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。MOCVD设备作为一种常用的外延(Epitaxy)生产设备，在高温、密闭、低压的环境中会形成大量反应残留粉尘，且粉尘中含有较高浓度的氨气。目前普遍使用吸尘器来吸除反应室内部的颗粒，但由于该颗粒具有导电性，很容易使吸尘器内部电路发生短路等故障，且普通吸尘器无法滤除氨气，直接排入周围的环境中会造成严重的污染。发明内容为了克服现有技术的不足，本实用新型旨在提出一种用于MOCVD机台的除尘装置，可以有效改善传统除尘装置在工作过程中废气外溢及电机短路等缺点，减少对环...
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