技术编号：8824369
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。在某些特种材料制备过程，尤其是在高压气氛炉中，往往需要分别在真空和高压两种不同状态下将电源线引入密闭容器，而在很多材料测试、机械加工领域也需要采用多个传感器对密闭容器内的试样进行观测，高压容器内部的传感器需要通过导线引出并传输至外部的数据采集系统。随着高压技术的发展，很多热压气氛炉的围压指标已达到几百MPa至IGPa左右。如氨热法制备GaN晶体所用的压力达到300MPa，而高压氮气溶液法制备GaN晶体所用的压力更是高达l_2GPa。长期以来，从事高压容器研...
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