一种基于去嵌入法测量硅通孔电特性的测量结构的制作方法技术资料下载

技术编号:8838128

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本实用新型涉及了一种集成电路硅通孔的测量结构,尤其是涉及了微波、毫米波 段器件测试领域的一种基于去嵌入法测量硅通孔电特性的测量结构,削弱硅通孔和与其连 接的水平互联线的耦合噪声,进而显著提高去嵌入法测量电特性精度。背景技术 目前主流集成电路的设计,包括英特尔的多芯片架构,延续的仍然是传统的二维 扁平系统架构,但随着晶体管的特征尺寸不断减小,互连线性能的瓶颈效应,以及摩尔定律 对尺寸极限的制约,呼唤一种新的集成电路系统架构的出现,以便充分体现其立体的垂直 ...
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