技术编号:8854546
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。化学机械抛光工艺是实现单晶硅衬底片表面平坦化的通用技术手段,抛光时给抛光机提供持续不断抛光液的系统是必要的装置。抛光液系统是否能够提供配制均匀、持续不断的抛光液是影响硅片抛光去除速率、硅片表面几何参数及微缺陷的最关键因素。抛光液为二氧化硅胶体,使用时需要将原液与纯水按一定比例进行稀释搅拌均匀,目前在生产过程中普遍用于给抛光机配制抛光液的方法是操作人员在抛光机旁的抛光液槽里将抛光液原液与纯水在现场配制、经过抛光液槽本身所带泵的简单循环后投入使用,这种方法虽然...
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