技术编号:8860500
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。真空磁控溅镀的原理为利用设置在一个靶材底侧的数个磁铁形成磁场,利用洛伦兹力(Lorentz force)将电子局限于该靶材表面附近,增加与电浆气体的碰撞几率以提高离子化程度,借此,能在该靶材表面形成高密度的电浆来提高该靶材的溅镀率,然而,往往由于该靶材表面的磁感应强度不均,会造成该靶材中磁场较强区域的溅镀率较高,磁场较弱区域的溅镀率较低,进而降低该靶材的利用率与寿命。参阅图1,中国台湾第1226378号发明专利公开一种真空镀膜系统的阴极装置1,该发明通过将...
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