技术编号:8860505
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。在太阳能电池的制备过程中,一般需要采用PECVD设备对硅片的发射结进行镀膜。现有的PECVD设备采用石墨框来承载硅片,并通过将石墨框放置在上下料台传送系统中进行循环传送,使得石墨框循环不断的到达硅片的上料位置和下料位置,从而实现PECVD设备的自动化作业。如图1和图2所示,现有PECVD设备的上下料台传送系统采用了立体式的空间布置方式,其包括上行用升降梯1、上方位置传送机构2、下行用升降梯(图中未示出)和下方位置传送机构3 ;上行用升降梯I和下行用升降梯内...
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