技术编号：8923752
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。基于离子的材料改性用于半导体制造的一种重要工艺。例如，基于离子的材料改性可被用来非晶化结晶材料、合金，使材料的多个层稠密或混合，辅助材料的去除，或者向材料引入掺杂物。在基于离子的材料改性期间，离子被加速以轰击工件表面(例如，半导体衬底)。离子可以是正离子或负离子，包括相对于工件表面在化学上活跃或惰性的物质或元素。因此，离子可改变工件表面的物理、化学或电特性。当前，基于离子的材料改性主要采用束线离子注入系统执行。在束线离子注入系统中，离子束由离子源导出并在朝...
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