技术编号:8940615
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明属于高温烧结炉,具体涉及一种高温真空烧结炉。背景技术上面提及的高温真空烧结炉是在“工欲其善必先利其器”的背景下诞生的,以属于类金刚石氮化物范畴的氮化铝(ALN)基片为例,由于其具有并非限于以下诸方面的长处热导率高,约为20W/m.k,接近BeO和SiC,并且是Al2O3的五倍以上;热膨胀系数小,在4.5X106°C,与Si (3.5?4X10 6°C)以及GaAs (6X 10 6°C )相当;电性能特性优异,具体而言,介电常数、介质损耗、体电阻率和...
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